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CSP(芯片級封裝)、倒裝芯片(Flip Chip)和圓片級封裝(WLP)是三種關鍵的半導體封裝技術,主要區別如下:
CSP(芯片級封裝)
封裝尺寸不超過芯片面積的1.5倍,或芯片寬/長的1.2倍,強調“接近芯片尺寸”。其結構可能包含引線鍵合或倒裝焊,基板類型包括柔性/剛性材料或晶圓級工藝。
示例:晶圓級CSP(WL-CSP)在晶圓上完成再布線和焊球制作,切割后直接形成封裝。
倒裝芯片(Flip Chip)
芯片電氣面朝下,通過凸點(如焊球)直接連接到基板,無需引線鍵合。凸點位置靈活,可分布在芯片邊緣或內部,適用于高頻、高密度場景。
圓片級封裝(WLP)
在晶圓階段完成全部封裝工藝(如再布線、植球、測試),切割后即為獨立器件。封裝尺寸等于芯片面積,效率接近100%。WLP可視為CSP的一種實現形式。
CSP:
用于移動設備、存儲器等,平衡尺寸與成本。例如,晶圓級CSP(WL-CSP)適用于低引腳數器件(如EEPROM)。
倒裝芯片:
高頻CPU、GPU、射頻模塊等對信號延遲敏感的場景,通過縮短互連路徑提升性能。
WLP:
便攜式電子產品(手機、智能穿戴)的微型化需求,尤其適合高密度I/O且無需額外散熱的器件。
CSP:I/O數受限(通常≤100),部分類型依賴傳統封裝流程,成本較高。
倒裝芯片:需精密對準設備,底部填充工藝復雜,熱膨脹系數匹配要求高。
WLP:可靠性數據積累不足,晶圓級工藝對缺陷敏感,良率挑戰大。
WLP與CSP:WLP是實現CSP的主流技術之一,如WL-CSP直接在晶圓上完成封裝,符合CSP的尺寸定義。
倒裝芯片與WLP:倒裝芯片可作為WLP的互連方式(如晶圓級凸點制作),兩者結合用于高密度封裝。
發展方向:向更小凸點間距、3D堆疊(如TSV技術)和異構集成演進,提升性能并降低成本。
總結:
CSP強調封裝尺寸接近芯片,WLP是其實現方式之一;倒裝芯片側重互連技術,可應用于CSP或WLP中;WLP則代表晶圓級集成的封裝范式。三者共同推動電子產品小型化與高性能化。
芯片清洗劑選擇:
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
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