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關于2.5DFC芯片封裝工藝全流程解析與核心市場應用的詳細分析。
在深入流程之前,首先要理解其概念。2.5D封裝是一種先進的集成電路封裝技術,其核心特征在于:多個芯片(如計算芯、高帶寬內存HBM)并排安裝在一種稱為“硅中介層”的基板上。
“2.5D”的由來:傳統2D封裝是將芯片直接安裝在有機基板(PCB-like)上;3D封裝則是將芯片直接堆疊在一起(如Die on Die)。2.5D介于兩者之間,芯片并未直接垂直堆疊,而是通過一個額外的中介層實現高密度互連,可以看作是“2D的布局,3D的性能”。
“FC”的含義:FC代表Flip-Chip,即倒裝焊技術。這是與傳統Wire Bonding(打線鍵合)相對應的技術,芯片的有源面(有晶體管的一面)朝下,通過微小的凸塊(Bump)直接與基板或中介層連接。2.5D封裝幾乎無一例外地采用Flip-Chip技術,因此常被稱為2.5DFC。
核心價值:2.5D封裝通過硅中介層上的高密度走線和硅通孔,實現了芯片間超短距離、超高帶寬(如HBM與GPU之間)、超低功耗的互連,完美解決了“內存墻”問題,是高性能計算的基石技術。
2.5D封裝的流程極為復雜,涉及多學科交叉。其主要流程可分為中介層制備、芯片制備、集成組裝和最終封裝四大階段。
核心材料與部件:
芯片:通常是一個大型計算單元(如CPU, GPU, ASIC)和多個高帶寬內存(HBM)。
硅中介層:核心部件,上面有精密走線(Redistribution Layer, RDL)和連接上下層的硅通孔(Through-Silicon Via, TSV)。
微凸點:連接芯片與中介層的微小焊球。
C4凸點:連接中介層與封裝基板的較大焊球。
底部填充膠:用于填充縫隙,增強機械強度并分散熱應力。
封裝基板:承載中介層和芯片,并將其連接到主板。
全流程步驟:
階段一:硅中介層制備
TSV制造:在硅晶圓上通過深反應離子刻蝕等技術制作垂直通孔。
TSV填充:用電鍍工藝填充銅等導電材料。
RDL制造:在晶圓表面沉積介電層和銅層,通過光刻和刻蝕工藝形成多層再布線層,實現XY平面上的電路連接。這是中介層上最精密的電路。
微凸點植球:在RDL的焊盤上制作微凸點,用于后續連接芯片。
階段二:芯片制備
晶圓測試:對計算芯和HBM晶圓進行電性測試,標記出不良品。
凸點制作:在芯片的焊盤上制作相應的微凸點。
切割:將晶圓切割成單個的芯片(Die)。
階段三:集成與組裝(核心步驟)
貼裝:使用高精度倒裝芯片鍵合機,將計算芯和HBM芯片精準地貼裝到硅中介層上。芯片的微凸點與中介層上的微凸點對準并接觸。
回流焊:通過加熱使微凸點熔化并焊接,形成牢固的電氣和機械連接。
底部填充:在芯片與中介層之間的細小縫隙中,用毛細作用或模壓注入底部填充膠,然后固化。這一步至關重要,能顯著提升可靠性和散熱。
中介層與封裝基板連接:將已經組裝好芯片的中介層,通過更大的C4凸點倒裝焊到傳統的有機封裝基板上。
下填充:同樣,對中介層與封裝基板之間的縫隙進行底部填充。
階段四:最終封裝
塑封:使用模具化合物將整個結構包封起來,提供物理保護。
植球:在封裝基板的底部焊上錫球,作為封裝體與PCB主板連接的接口。
測試:進行最終的電性能、功能性和可靠性測試,確保良品。
至此,一個完整的2.5DFC封裝體就完成了。
2.5DFC封裝成本高昂,因此其應用主要集中在那些對性能、帶寬和能效有極致追求的高端領域。
1. 人工智能與高性能計算
應用場景:AI訓練集群、超級計算機、數據中心加速卡。
代表產品:NVIDIA的GPU(如A100, H100及其后續版本)、AMD的MI系列加速卡、Google的TPU。
需求分析:AI模型尤其是大語言模型,需要海量數據在GPU和內存間快速流動。2.5D封裝將GPU與HBM緊密集成,提供了高達TB/s級別的內存帶寬,是訓練和推理任務得以高效運行的關鍵。
2. 高端網絡與通信
應用場景:高速路由器、交換機、光通信設備、5G/6G基站的核心處理芯片。
需求分析:網絡數據吞吐量呈指數級增長,要求核心交換芯片和處理器具備極高的數據處理速度和帶寬。2.5D封裝可以集成多個核心、高速SerDes(串行解串器)和大容量緩存,滿足Tb/s級別的數據交換需求。
3. 高端FPGA
應用場景:原型驗證、加速計算、軍事航空、醫療成像。
代表產品:Xilinx(AMD)/Altera(Intel)的高端FPGA產品(如Virtex UltraScale+, Stratix 10)。
需求分析:現代FPGA不再是簡單的邏輯單元陣列,而是集成了處理器核心、高速接口、HBM等的系統級平臺。2.5D封裝是實現這種復雜異構集成的理想選擇。
4. 其他新興領域
自動駕駛:L4/L5級自動駕駛的計算平臺需要處理海量的傳感器數據,進行實時決策,對算力和內存帶寬要求極高。
高端圖形處理:頂級工作站和游戲主機的GPU也開始采用類似技術來提升性能。
總結特點:
優勢:極致性能(高帶寬、低延遲、低功耗)、異構集成能力強、縮小整體尺寸。
挑戰:制程復雜、成本極高(尤其是硅中介層)、良率控制難、散熱問題突出。
未來展望:
成本優化:研發低成本中介層替代方案,如基于玻璃、有機材料的中介層,以及Intel的EMIB(嵌入式多芯片互連橋)等無源中介層技術,旨在以更低成本實現類似性能。
與3D IC融合:未來將是2.5D和3D封裝技術融合的時代。先用2.5D技術將HBM等組件與計算芯并排互連,再在計算芯上通過3D堆疊緩存(如SRAM),形成更復雜的3D系統級集成。
應用普及:隨著技術成熟和成本下降,2.5D封裝的應用將從頂級旗艦產品逐漸下探到更多高性能需求的領域,成為推動摩爾定律延續的重要引擎之一。
總而言之,2.5DFC封裝是后摩爾時代突破性能瓶頸的關鍵使能技術,雖然目前成本高昂,但其在高端市場的價值不可替代,并將持續演進,塑造未來芯片的形態。
2.5DFC封裝清洗劑-合明科技芯片封裝前錫膏助焊劑清洗劑介紹:
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
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半導體技術應用節點:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆疊集成;COB綁定前清洗;晶圓級封裝;高密度SIP焊后清洗;功率電子清洗。