因為專業
所以領先
關于芯片制造中封裝技術從傳統封裝到晶圓級封裝(WLP)發展晉級階段的詳細闡述。
封裝技術的發展史,本質上是一部追求 “更小、更薄、更輕、更快、更省、更可靠” 的歷史。它從保護芯片、連接內外世界的簡單角色,演進成為提升整個系統性能的關鍵賦能技術。
整個發展路程可以清晰地分為四個主要階段,其核心演進方向如下圖所示:
時間: 20世紀70-80年代
代表技術: 雙列直插封裝 (DIP - Dual In-line Package)
特點:
工藝: 封裝廠將測試好的晶圓進行“劃片”(Dicing),分割成單個芯片(Die)。然后將芯片粘結在引線框架(Lead Frame)上,利用細金屬線(金線)進行“鍵合”(Wire Bonding)連接芯片焊盤和引線框架的引腳,最后用塑料或陶瓷材料封裝成型。
安裝方式: 通孔插裝(Through-hole technology),將封裝好的芯片引腳插入印刷電路板(PCB)的通孔中再進行焊接。
局限性:
體積龐大:封裝尺寸遠大于芯片本身,嚴重浪費空間。
效率低下:引腳數(Pin Count)受限,難以滿足復雜芯片的需求。
電性能差:引線較長,產生較大的寄生電感和電阻,影響信號傳輸速度和完整性,不適合高頻應用。
時間: 20世紀80-90年代
代表技術: 小外形封裝 (SOP)、四面扁平封裝 (QFP - Quad Flat Package)
特點:
工藝: 仍然主要采用“引線框架 + 鍵合線”的結構,但引腳從兩側發展到四側,引腳間距(Pitch)更小。
安裝方式: 表面貼裝(Surface-mount technology,SMT),引腳直接焊接在PCB表面,無需打孔。
晉級:
體積縮小:封裝體積和厚度相比DIP顯著減小。
密度提升:引腳數量增加,適應了更復雜芯片(如MCU、早期CPU)的需求。
局限性:
鍵合線瓶頸:當引腳數進一步增加時,引腳間距已接近工藝極限,易導致焊接短路。
電熱性能:鍵合線的寄生效應仍然是高頻性能的瓶頸,散熱能力有限。
時間: 20世紀90年代
代表技術:
特點: 定義是封裝面積不超過芯片面積的1.2倍。CSP是一種概念,而非單一技術,它可以通過多種方式實現(如引線框架型、柔性基板型等)。
晉級: 實現了封裝尺寸的極致小型化,是邁向晶圓級封裝(WLP) 的關鍵過渡。
特點: 將封裝引腳從封裝體四周改為以陣列形式排布在封裝底部的焊球。這些焊球既是電氣連接點,也是機械連接點。
晉級:
局限性: 封裝尺寸仍然大于芯片本身。
密度飛躍:極大地增加了I/O數量,解決了多引腳芯片的封裝難題。
電性能提升:焊點路徑短,減少了引線電感和電容,改善了高頻性能。
散熱更好:芯片背面往往可接觸散熱器,熱管理能力增強。
球柵陣列封裝 (BGA - Ball Grid Array)
芯片級封裝 (CSP - Chip Scale Package)
時間: 20世紀90年代末至今
核心革命:晶圓級封裝 (WLP - Wafer-Level Package)
理念顛覆: 將封裝工藝從“單個芯片”層面提前到“整個晶圓”層面完成。在劃片之前,直接在晶圓上對所有芯片同時進行再布線(RDL)、凸點制作(Bumping)等封裝步驟。完成后,再進行測試和劃片。
代表技術:
特點: 突破了芯片面積的限制。通過將芯片嵌入到環氧樹脂模塑料(Molding Compound)中,形成一個“重構晶圓”(Reconstituted Wafer)。然后在芯片本體之外的區域進行再布線,將I/O“扇出”到更大的區域。
晉級:
應用: 蘋果/高通/海思等旗艦手機處理器、5G毫米波天線模塊、高端AI加速器等。
I/O密度更高:可以容納比Fan-In WLP多得多的I/O數量。
集成度更高:可以在重構晶圓上集成多個不同工藝、不同功能的芯片(如處理器、內存、射頻芯片),實現系統級封裝(SiP) 和異質集成。
性能更優:互連路徑極短,提供了最優的電性能和熱性能。
特點: 所有I/O焊球都分布在芯片內部的區域。是最基本、最經濟的WLP形式。
優點: 尺寸最小(等于芯片本身),成本低,電性能極佳。
應用: 廣泛用于I/O數量較少的芯片,如電源管理IC、射頻芯片、手機中的各種傳感器等。
扇入型晶圓級封裝 (Fan-In WLP)
扇出型晶圓級封裝 (Fan-Out WLP) - 當前主流與高地
未來方向:系統級封裝 (SiP) 與異構集成 (Heterogeneous Integration)
封裝技術的角色已經從“保護芯片”轉變為“集成系統”。未來的發展不再是單一技術的競爭,而是融合了Fan-Out WLP、2.5D/3D IC(硅通孔TSV)、嵌入式基板等多項先進技術的平臺化競爭,目標是在一個封裝體內集成整個電子系統。
特性 | 傳統封裝 (DIP/QFP) | 先進封裝 (BGA/CSP) | 晶圓級封裝 (WLP) |
工藝順序 | 先劃片,后封裝 | 先劃片,后封裝 | 先封裝,后劃片 |
封裝尺寸 | 遠大于芯片 | 略大于芯片 (~1.2x) | 等于或稍大于芯片 |
I/O密度 | 低 | 中 | 極高 |
電性能 | 差(寄生效應大) | 較好 | 優異(路徑最短) |
成本導向 | 封裝本身成本 | 封裝本身成本 | 整體系統成本/性能比 |
核心功能 | 保護、連接 | 保護、連接、提升密度 | 保護、連接、提升系統性能與集成度 |
結論:
從傳統封裝到晶圓級封裝的發展路程,是一次從 “后端制造” 到 “前道延伸” 的思維轉變,是封裝從“被動適應”到“主動賦能”的角色蛻變。晶圓級封裝,特別是扇出型(Fan-Out)技術,已經成為推動摩爾定律繼續前行、實現異質集成和系統級創新的最重要引擎之一。
晶圓級封裝清洗劑--合明科技芯片封裝前錫膏助焊劑清洗劑介紹:
水基清洗的工藝和設備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環境中的濕氣,通電后發生電化學遷移,形成樹枝狀結構體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導致焊點質量降低、焊接時焊點拉尖、產生氣孔、短路等等多種不良現象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關注的呢?助焊劑或錫膏普遍應用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質在所有污染物中的占據主導,從產品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產品質量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質引發接觸電阻增大,嚴重者導致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質量。
合明科技研發的水基清洗劑配合合適的清洗工藝能為芯片封裝前提供潔凈的界面條件。
合明科技運用自身原創的產品技術,滿足芯片封裝工藝制程清洗的高難度技術要求,打破國外廠商在行業中的壟斷地位,為芯片封裝材料全面國產自主提供強有力的支持。
推薦使用合明科技水基清洗劑產品。
合明科技致力于為SMT電子表面貼裝清洗、功率電子器件清洗及先進封裝清洗提供高品質、高技術、高價值的產品和服務。合明科技 (13691709838)Unibright 是一家集研發、生產、銷售為一體的國家高新技術、專精特新企業,具有二十多年的水基清洗工藝解決方案服務經驗,掌握電子制程環保水基清洗核心技術。水基技術產品覆蓋從半導體芯片封測到 PCBA 組件終端的清洗應用。是IPC-CH-65B CN《清洗指導》標準的單位。合明科技全系列產品均為自主研發,具有深厚的技術開發能力,擁有五十多項知識產權、專利,是國內為數不多擁有完整的電子制程清洗產品鏈的公司。合明科技致力成為芯片、電子精密清洗劑的領先者。以國內自有品牌,以完善的服務體系,高效的經營管理機制、雄厚的技術研發實力和產品價格優勢,為國內企業、機構提供更好的技術服務和更優質的產品。合明科技的定位不僅是精湛技術產品的提供商,另外更具價值的是能為客戶提供可行的材料、工藝、設備綜合解決方案,為客戶解決各類高端精密電子、芯片封裝制程清洗中的難題,理順工藝,提高良率,成為客戶可靠的幫手。
合明科技憑借精湛的產品技術水平受邀成為國際電子工業連接協會技術組主席單位,編寫全球首部中文版《清洗指導》IPC標準(標準編號:IPC-CH-65B CN)(“Guidelines for Cleaning of Printed Boards and Assemblies”),IPC標準是全球電子行業優先選用標準,是集成電路材料產業技術創新聯盟會員成員。
主營產品包括:集成電路與先進封裝清洗材料、電子焊接助焊劑、電子環保清洗設備、電子輔料等。
半導體技術應用節點:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆疊集成;COB綁定前清洗;晶圓級封裝;高密度SIP焊后清洗;功率電子清洗。