因為專業(yè)
所以領(lǐng)先
Fan-Out(扇出型)封裝技術(shù)作為先進封裝的重要分支,通過重構(gòu)芯片I/O端口布局實現(xiàn)更小尺寸、更高集成度,已成為半導(dǎo)體行業(yè)突破物理限制的關(guān)鍵方向。以下從工藝流程、核心技術(shù)難點及市場應(yīng)用三方面展開解析。
Fan-Out封裝的核心邏輯是在晶圓級加工中突破芯片原始I/O布局限制,通過重布線(RDL)實現(xiàn)引腳“扇出”式擴展。其工藝流程可分為載板準備、芯粒貼裝、塑封成型、RDL制備、凸點制作及切割測試六大核心步驟:
載板預(yù)處理:在臨時載板表面依次涂覆釋放膜(Release Film)和粘性膠帶(Adhesive Tape),確保后續(xù)工藝完成后可剝離載板。
芯粒精準貼裝:通過高精度拾取-放置(Pick and Place)設(shè)備將切割后的裸芯片(Die)按預(yù)設(shè)間距貼附于載板,貼裝精度需控制在±1μm以內(nèi),以避免后續(xù)RDL錯位。
整體塑封:采用環(huán)氧樹脂等塑封料(Molding Compound)將芯粒與載板整體包裹,形成“重構(gòu)晶圓”(Reconstituted Wafer)。塑封工藝需解決材料固化收縮導(dǎo)致的芯粒偏移問題,例如通過優(yōu)化塑封料配方降低熱膨脹系數(shù)(CTE)差異3。
載板剝離:塑封完成后去除臨時載板,露出芯粒的I/O焊盤(Pad),為RDL制備做準備。
RDL層構(gòu)建:通過光刻、電鍍銅工藝在塑封表面形成多層金屬布線,將芯粒的I/O端口從中心區(qū)域“扇出”至更大面積。RDL工藝類似微型PCB制造,線寬/線距可達到1-5μm,支持高密度互聯(lián)。
自適應(yīng)補償技術(shù):針對芯粒貼裝偏移,通過光學(xué)檢測設(shè)備測量每個芯粒的實際位置,將數(shù)據(jù)反饋至光刻系統(tǒng),動態(tài)調(diào)整RDL圖形以匹配物理位置,提升良率。
焊球植球:在RDL頂層焊盤制作錫鉛凸點(Bump)或銅柱凸點,作為與外部主板連接的接口。
切割與測試:將重構(gòu)晶圓切割為單個封裝體,進行電氣性能測試(如信號完整性、功耗)和可靠性測試(溫循、濕熱老化)。
Fan-Out封裝的量產(chǎn)挑戰(zhàn)主要集中在工藝精度控制與材料兼容性,具體解決方案如下:
技術(shù)難點 | 成因 | 行業(yè)解決方案 |
芯粒貼裝偏移 | 塑封料收縮、粘性膠帶粘力不足 | 采用高精度貼片機+自適應(yīng)RDL圖形補償技術(shù)3 |
重構(gòu)晶圓翹曲 | 塑封料與芯粒CTE不匹配 | 引入低熱應(yīng)力塑封料(如納米填充環(huán)氧樹脂)3 |
RDL良率低下 | 線寬過細導(dǎo)致短路/斷路 | 采用大馬士革電鍍工藝提升布線均勻性2 |
Fan-Out技術(shù)憑借小尺寸、高集成度、低成本特性,已廣泛應(yīng)用于消費電子、汽車電子及高性能計算領(lǐng)域:
應(yīng)用場景:射頻芯片(RFIC)、電源管理芯片(PMIC)封裝。例如,蘋果Watch采用Fan-Out封裝將多顆芯片集成,實現(xiàn)0.8mm超薄機身設(shè)計。
技術(shù)優(yōu)勢:封裝尺寸比傳統(tǒng)BGA減小30%以上,滿足終端設(shè)備小型化需求。
高可靠性需求:采用陶瓷基Fan-Out封裝,可耐受-40℃~150℃寬溫環(huán)境,適用于車載雷達、自動駕駛域控制器。
成本優(yōu)勢:相比SiP(系統(tǒng)級封裝),F(xiàn)an-Out省去中介層(Interposer),單位面積成本降低20%-30%。
2.5D/3D集成橋梁:Fan-Out與TSV(硅通孔)技術(shù)結(jié)合,可實現(xiàn)多芯粒堆疊(如GPU與HBM內(nèi)存集成),內(nèi)存帶寬提升至1TB/s以上。
散熱優(yōu)化:塑封材料中嵌入散熱通道,解決高功率密度芯片的熱管理問題。
Fan-Out技術(shù)正朝著更高密度、多芯片異構(gòu)集成方向演進:
Chiplet(芯粒)整合:通過RDL實現(xiàn)不同工藝節(jié)點芯粒(如CPU+FPGA)的互聯(lián),構(gòu)建“虛擬SOC”,降低設(shè)計成本。
與3D封裝融合:例如臺積電InFO_PoP(集成扇出-堆疊封裝)技術(shù),將邏輯芯片與存儲芯片垂直堆疊,厚度僅0.3mm。
Fan-Out封裝作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)“超越摩爾定律”的關(guān)鍵技術(shù),其工藝流程的持續(xù)優(yōu)化將推動電子產(chǎn)品向“更小、更快、更智能”邁進。
Fan-Out芯片清洗劑選擇:
水基清洗的工藝和設(shè)備配置選擇對清洗精密器件尤其重要,一旦選定,就會作為一個長期的使用和運行方式。水基清洗劑必須滿足清洗、漂洗、干燥的全工藝流程。
污染物有多種,可歸納為離子型和非離子型兩大類。離子型污染物接觸到環(huán)境中的濕氣,通電后發(fā)生電化學(xué)遷移,形成樹枝狀結(jié)構(gòu)體,造成低電阻通路,破壞了電路板功能。非離子型污染物可穿透PC B 的絕緣層,在PCB板表層下生長枝晶。除了離子型和非離子型污染物,還有粒狀污染物,例如焊料球、焊料槽內(nèi)的浮點、灰塵、塵埃等,這些污染物會導(dǎo)致焊點質(zhì)量降低、焊接時焊點拉尖、產(chǎn)生氣孔、短路等等多種不良現(xiàn)象。
這么多污染物,到底哪些才是最備受關(guān)注的呢?助焊劑或錫膏普遍應(yīng)用于回流焊和波峰焊工藝中,它們主要由溶劑、潤濕劑、樹脂、緩蝕劑和活化劑等多種成分,焊后必然存在熱改性生成物,這些物質(zhì)在所有污染物中的占據(jù)主導(dǎo),從產(chǎn)品失效情況來而言,焊后殘余物是影響產(chǎn)品質(zhì)量最主要的影響因素,離子型殘留物易引起電遷移使絕緣電阻下降,松香樹脂殘留物易吸附灰塵或雜質(zhì)引發(fā)接觸電阻增大,嚴重者導(dǎo)致開路失效,因此焊后必須進行嚴格的清洗,才能保障電路板的質(zhì)量。
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主營產(chǎn)品包括:集成電路與先進封裝清洗材料、電子焊接助焊劑、電子環(huán)保清洗設(shè)備、電子輔料等。
半導(dǎo)體技術(shù)應(yīng)用節(jié)點:FlipChip ;2D/2.5D/3D堆疊集成;COB綁定前清洗;晶圓級封裝;高密度SIP焊后清洗;功率電子清洗。