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小芯片和混合鍵合開辟新領域與先進封裝芯片清洗介紹

發布日期:2023-06-16 發布者:合明科技 瀏覽次數:4420
超越摩爾定律的創新:小芯片和混合鍵合開辟新領域

先進封裝已成為半導體創新、增強功能、性能和成本效益的關鍵。臺積電、英特爾和三星等大公司正在采用小芯片和異構集成 策略,利用 AP 技術以及前端擴展工作。
chiplet 方法 將 SoC 芯片劃分為多個芯片,僅縮放具有先進技術節點的芯片,并使用 2.5D 或 3D 封裝將它們集成。這提高了產量并降低了成本。混合鍵合 (HB:Hybrid Bonding) 是另一個 重要趨勢,可實現金屬-金屬和氧化物-氧化物面對面堆疊,且凸點間距小于10 μm。它用于 CIS 和 3D NAND 堆疊等應用的晶圓到晶圓混合鍵合,以及用于 PC、HPC 和數據中心的邏輯上內存堆疊 3D IC 中的 3D SoC 的持續開發。
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臺積電憑借其CoWoS 生產和多樣化產品組合(包括 3D SoIC 、  InFO_SoW和 CoWoS變體)在高端先進封裝領域處于領先地位 。英特爾在2022年大力投資先進封裝,但宏觀經濟因素影響了其2023年的核心業務。因此,我們預計臺積電今年在先進封裝方面的投資將超過英特爾 。三星為 HBM 和 3DS 產品、扇出面板級封裝和 硅中介層提供先進封裝解決方案,從而實現高端性能產品。
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與傳統封裝相比,先進封裝需要不同的設備、材料和工藝,例如新的基板材料、光刻工藝、激光鉆孔、CMP 和 KGD 測試。AP 參與者進行了大量投資 來開發和引入這些進步。與先進封裝的異構集成推動了半導體創新,提高了整體系統性能,同時降低了成本。

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芯片封裝基板的助焊劑清洗:

半導體芯片封裝過程中通常會使用助焊劑和錫膏等作為焊接輔料,這些輔料在焊接過程或多或少都會有部分殘留物,還包括制程中沾污的指印、汗液、角質和塵埃等污染物。同時,半導體組裝了鋁、銅、鉑、鎳等敏感金屬和油墨字符、電磁碳膜和特殊標簽等相當脆弱的功能材料。這些敏感金屬和特殊功能材料對清洗劑的兼容性提出了很高的要求。

合明半水基清洗工藝解決方案,可在清洗芯片封裝基板的焊接殘留物和污垢的同時去除金屬界面高溫氧化膜,保障下一道工序的金屬界面結合強度;對芯片半導體基材、金屬材料擁有優良的材料兼容性,清洗后易于用水漂洗干凈。

歡迎使用合明科技半水基清洗劑W3300!

以上便是芯片封裝基板清洗,封裝基板的主要結構和生產技術的介紹,希望可以幫到您!

 


Tips:

【閱讀提示】

以上為本公司一些經驗的累積,因工藝問題內容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產業的不斷更新換代,新的工藝問題也不斷出現,本公司自成立以來不斷的追求產品的創新,做到與時俱進,熟悉各種生產復雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設備、材料的清洗解決方案支持。

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